工业废气光氧催化设备介绍

工业废气光氧催化设备介绍

 

紫外线废气净化设备用紫外线光束照射三苯基废气，将气体分解成无害物质，可应用于各种环境。紫外废气净化设备主要由框架、紫外灯管、催化剂、预过滤网和电气元件组成。该设备具有处理效率高、无需添加任何物质、适应性强、运行能力低、占地面积小的特点。

 

在光催化反应区，253.7nm的紫外光首先破坏废气中污染物的分子链，将其大分子结构分解为小分子结构。185 nm的紫外光使氧气处于空气中氧分子产生的自由状态。由于正电子和负电子的不平衡，游离氧必须与氧分子结合才能产生臭氧。提高低温等离子一段时间后的治疗效果。

 

光催化氧化是光化学和催化氧化方法的升级，它结合了光化学和催化氧化，具有更好的处理效果。而且它不存在催化剂中毒和不能处理成分复杂废气的缺陷，运行成本较低，因为在催化剂的作用下可以在中低温下进行，所以能耗也较低。对于vocs气体的气味，甲苯、甲醛、二甲苯等气体的处理效率可达96%以上。

 

光催化氧化废气处理反应的原理是什么？光催化氧化由外部可见光催化，以半导体和空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2、H2O等无毒有害成分。采用人工紫外光波作为能源，经专门处理后，与活性强、响应效率高的纳米二氧化钛催化剂配合使用，恶臭废气经处理后可达到更理想的污染效果。

 

广谱光催化氧化适用于从碳氢化合物到羧酸的各种有机化合物，甚至是原子有机化合物，如卤代烃、染料、含氮有机化合物和有机磷农药，只有通过明确的时间响应才能实现完全污染。

 

在半导体光催化氧化反应中，紫外光照射在纳米二氧化钛催化剂上，纳米二氧化钛催化剂吸收光能产生电子跃迁和空穴跃迁，最终结合产生电子空穴对。在光催化氧化的影响下，与废气表面吸附的水分(H2O)和氧气(O2)反应，产生羟基自由基和超氧化物离子自由基，具有非常活跃的氧化波，可以将碳氢化合物、醛类、酚类、醇类、硫醇类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物等VOC有机和无机物质等各种有机废气还原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)等无毒有害物质。污染后废气分子被活化降解，同时臭气消失，起到废气处理的作用。同时，可以有效去除管道中滋生的细菌和病毒。由于光催化氧化反应过程中没有添加剂，不会产生二次污染。运营成本方面，只使用电能，无需频繁更换配件，对企业来说是与节能环保相称的。

 

工业废气通过排气设备输入净化设备后，净化设备利用高能紫外光束和臭氧对工业废气进行协同分解和氧化反应，使工业废气降解转化为低分子化合物、水和二氧化碳，然后通过排气管排放到室外。用高能-C束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸(DNA)，然后用臭氧进行氧化反应，从而完全达到净化杀菌的目的。考虑到空气净化的效率，我们选择了高电晕电流结合-C波段紫外线和臭氧发射的装置，并采用脉冲电晕解吸技术的原理来消除有害气体，其中-C波段紫外线主要用于去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯和二甲苯。